ASML rückt mit der massiven Einführung seiner EUV-Lithographie mit hoher numerischer Apertur (High-NA) ab nächstem Jahr vor. Diese Technologie ist grundlegend für die Serienproduktion von Chips in Nodes um 1,4 nm. Intel, Samsung und SK hynix sind die ersten Kunden, während TSMC seine großflächige Adoption aus Kostengründen verschiebt und einen allgemeinen Einsatz für 2027-2028 plant.
Der technische Sprung: Apertur 0,55 und Muster von 8 nm in einem Durchgang ⚙️
Die High-NA EUV-Ausrüstung erhöht die numerische Apertur auf 0,55 im Vergleich zu 0,33 bei den aktuellen EUV-Systemen. Diese Änderung ermöglicht das Bedrucken von Mustern von etwa 8 Nanometern in einer einzigen Belichtung, was die Fertigungsabläufe für fortschrittliche Logik- und Speichernodes vereinfacht. Die Fähigkeit, feinere Merkmale aufzulösen, ist entscheidend für Prozesse nach 2 nm.
Und du, hast du schon deinen Scanner für 300 Millionen reserviert? 💸
Während die Halbleiterriesen ihre Bestellungen planen, können wir anderen über den Preis dieses Ingenieurswunders nachdenken. Jedes System kostet rund hunderte Millionen Dollar, eine Summe, die den Kauf einer Wohnung in Madrid wie eine geringe Ausgabe erscheinen lässt. Es scheint, dass der Eintritt in den Club der 1,4 nm mehr erfordert als guten Willen und ein paar Siliziumwafer.