ASML 通报了其半导体光刻系统的一个关键进展。极紫外（EUV）光源的功率已达到 1000 瓦。这一跃升允许每小时处理近 330 张硅晶圆，这一数据降低了芯片制造成本。公司预计这一进步将推动其扫描仪的生产力到 2030 年提高 50%。
技术扩展和通往 2000 瓦的路线 ⚡
增至 1000 瓦的提升集中在光源上，在那里高功率激光撞击锡产生锡等离子体。这一过程的稳定性对性能至关重要。ASML 的工程师表示，没有根本性的技术障碍阻止继续扩展这一功率。道路已清扫干净，可以在未来迭代中将这一数字翻倍，达到 2000 瓦，这将意味着生产力的进一步提高。
我们 2015 年的路由器不会注意到区别 😅
以这种节奏，当他们达到 2000 瓦时，或许我们就能打印一个运行 Windows 11 而风扇不会像聚变反应堆一样响的芯片。与此同时，我们的日常设备仍会找到办法在打开三个浏览器标签时饱和。知道制造的前沿在前进是令人欣慰的，尽管我们的智能恒温器仍需要每两天手动重启一次。