NEO Semiconductor представляет первый кремниевый прототип памяти 3D X-DRAM

24.04.2026 Publicado | Traducido del español

Американская компания NEO Semiconductor добилась значительного прорыва в области оперативной памяти, создав первый функциональный прототип своей технологии 3D X-DRAM на кремнии. Данная конструкция вертикально укладывает ячейки памяти, имитируя подход 3D NAND, с целью увеличения плотности хранения данных и смягчения глобального дефицита микросхем памяти. После года без финансовой поддержки проект теперь привлекает инвесторов и производителей, заинтересованных в его потенциале.

Крупный план синеватого кремниевого чипа с вертикальными слоями светящихся ячеек, сложенных как микроскопический небоскреб на фоне золотых цепей.

Вертикальное наслоение: ключ к большей плотности 🏗️

Архитектура 3D X-DRAM использует слои ячеек памяти, вертикально уложенные на кремниевую подложку — метод, позволяющий умножить емкость на единицу площади без увеличения размера чипа. В отличие от современных плоских DRAM-памятей, данная конструкция обещает снизить энергопотребление и задержки за счет сокращения расстояний межсоединений. NEO Semiconductor утверждает, что их прототип преодолевает ограничения горизонтального масштабирования, предлагая путь к созданию более плотных и эффективных модулей RAM для серверов и высокопроизводительных устройств.

От забытого проекта до любимца инвесторов 🤑

Забавно, что в течение года никто не хотел вкладывать ни копейки в эту идею. Инвесторы, должно быть, были слишком заняты просмотром графиков криптовалют или покупкой акций компаний по производству виртуальных питомцев. Теперь, когда они видят работающий прототип, они рвутся запрыгнуть в этот поезд. Прямо как одноклассник, которого ты игнорируешь, пока он не получает отлично, и вдруг ты хочешь стать его другом. Хорошо, что технологии не злопамятны, или, по крайней мере, так кажется.