Sistema de impresión 3D micro-escala de doble resolución
Boston Micro Fabrication ha logrado la concesión de la patente estadounidense número 12,420,486 B2 que protege su innovador sistema de impresión 3D en micro-escala con capacidad de doble resolución. Esta tecnología patentada, denominada Multi-Scale System for Projection Micro Stereolithography, representa un avance significativo en el campo de la fabricación aditiva de alta precisión al permitir alternar entre dos niveles de resolución dentro del mismo equipo sin necesidad de intercambiar componentes ópticos.
Integración en microArch D1025
La tecnología patentada ya se encuentra implementada en la impresora microArch D1025, disponible comercialmente desde 2024. Este equipo incorpora el sistema óptico de doble resolución como parte fundamental de su arquitectura, permitiendo a los usuarios seleccionar entre resoluciones de 10 micrómetros para detalles extremadamente finos y 25 micrómetros para procesos más rápidos, todo dentro de un mismo flujo de trabajo continuo y sin interrupciones.
Aplicaciones industriales especializadas
La versatilidad del sistema de doble resolución encuentra su máximo valor en aplicaciones que demandan simultáneamente alta precisión y eficiencia productiva. Sectores como dispositivos médicos implantables, componentes electrónicos miniaturizados, sistemas fotónicos y dispositivos microfluídicos se benefician de esta capacidad de adaptar la resolución según las necesidades específicas de cada zona del componente fabricado, optimizando así el tiempo total de producción sin comprometer los detalles críticos.
Ahora los ingenieros pueden debatir eternamente si empezar con alta resolución y cambiar a velocidad o viceversa, mientras la impresora simplemente hace su trabajo eficientemente sin participar en esas discusiones filosóficas.
