La macchina di litografia ultravioletta estrema di ASML: fabbricare chip a scala nanometrica

Pubblicato il 16 January 2026 | Tradotto dallo spagnolo
Fotografía de la máquina de litografía ultravioleta extrema Twinscan EXE:5200 de ASML, un equipo grande y complejo con componentes metálicos y de vidrio, esencial para fabricar los chips más avanzados del mundo.

La macchina di litografia ultravioletta estrema di ASML: fabbricare chip a scala nanometrica

La tecnologia per produrre semiconduttori fa un salto con la litografia ultravioletta estrema (EUV). Questi sistemi, progettati da ASML, sono imprescindibili per creare i circuiti integrati più densi e potenti che esistono attualmente. 🚀

Generare luce a una scala minuscola

Il processo centrale di questa macchina si basa sull'uso di luce con una lunghezza d'onda di appena 13,5 nanometri. Per ottenere questa luce EUV, il sistema trasforma gocce di stagno fuso in un plasma luminoso. Questa luce è l'unica che permette di incidere i pattern di circuiti incredibilmente piccoli sulle wafer di silicio.

Il cuore del sistema EUV:
  • Un potente laser CO2 colpisce gocce di stagno in caduta libera all'interno di una camera a vuoto.
  • L'impatto istantaneo converte lo stagno in plasma, che emette la cruciale luce ultravioletta estrema.
  • Un insieme di specchi speciali, fabbricati con strati alternati di molibdeno e silicio, catturano e dirigono questa luce con precisione estrema.
Questi specchi si trovano tra i più piani mai fabbricati; una minima imperfezione rovinerebbe l'intero pattern del chip.

Precisione che ridefinisce i limiti

La macchina, nota come modello EXE:5200, allinea ed espone la wafer strato per strato. La sua capacità definisce la scala dei transistor, raggiungendo dimensioni critiche inferiori ai 10 nanometri. Questo permette di integrare decine di miliardi di transistor in un singolo chip.

Condizioni operative critiche:
  • Tutto il processo deve avvenire in un vuoto quasi perfetto, poiché l'aria assorbirebbe la luce EUV.
  • La wafer si muove e si regola con una precisione paragonabile a centrare un buco da golf da una distanza continentale.
  • Questa densità di transistor è fondamentale per potenziare l'intelligenza artificiale e il calcolo ad alte prestazioni.

Un pilastro per l'elettronica futura

Senza la tecnologia di litografia EUV, avanzare ulteriormente nella miniaturizzazione dei circuiti elettronici sarebbe praticamente impossibile. Questa attrezzatura non solo fabbrica i chip di oggi, ma getta le basi per la prossima generazione di dispositivi elettronici. La sua operazione delicata e la sua precisione nanometrica la rendono una delle macchine più complesse mai costruite. ⚙️