Détection de puces contrefaites par microscopie tridimensionnelle et analyse des couches

01 June 2026 Publié | Traduit de l'espagnol

La contrefaçon de circuits intégrés est une menace croissante pour l'industrie électronique, en particulier dans des secteurs critiques tels que la défense, l'automobile et les dispositifs médicaux. Les puces contrefaites non seulement tombent en panne prématurément, mais peuvent également introduire des portes dérobées ou des chevaux de Troie matériels. Pour lutter contre cela, les laboratoires de vérification ont recours à des techniques d'imagerie 3D avancées qui permettent d'inspecter la structure interne du silicium sans le détruire, révélant des altérations invisibles à l'œil nu.

Microscopie 3D révélant les couches internes d'une puce semi-conductrice pour détecter les contrefaçons

Tomographie aux rayons X et reconstruction des couches 🔬

Le processus commence par l'acquisition d'un volume tridimensionnel de la puce suspecte à l'aide de la microscopie électronique à balayage par faisceau d'ions focalisés (FIB-SEM) ou de la tomographie aux rayons X à haute résolution. Des coupes séquentielles de chaque couche métallique et d'oxyde sont obtenues, générant un modèle 3D voxélisé. Ce modèle est aligné sur la conception originale au format GDSII, permettant une comparaison couche par couche. Les divergences typiques incluent l'absence de contacts en tungstène dans les vias critiques, une épaisseur anormale de la couche de polysilicium ou la présence de marques de lot effacées par polissage chimico-mécanique. La visualisation 3D facilite l'identification de substrats de silicium de qualité inférieure ou la réutilisation de plaquettes mises au rebut.

La nouvelle frontière de l'authentification des semi-conducteurs 🛡️

La combinaison de la modélisation inverse et de l'analyse structurelle 3D change la donne dans la chaîne d'approvisionnement des semi-conducteurs. Il ne suffit plus d'inspecter le boîtier ou les broches ; il est désormais possible de démasquer des répliques qui imitent parfaitement la surface de la puce mais cachent des couches métalliques mal conçues ou des dopages incorrects. Pour les ingénieurs en microfabrication, maîtriser ces techniques de vérification volumétrique devient aussi essentiel que la conception du circuit elle-même, garantissant que ce qui est acheté est exactement ce qui a été conçu.

En tant qu'ingénieur de conception, quelle différence pratique au niveau du processus de fabrication est celle qui trahit le plus clairement une puce contrefaite lorsqu'elle est analysée par microscopie 3D et non simplement par une inspection optique de surface ?

(PS : les circuits intégrés sont comme les examens : plus on les regarde, plus on voit de lignes)